HfO2薄膜相关论文
研究了高k介质HfO2薄膜制备工艺和石墨烯原位沉积工艺的结合.采用真空电子束蒸镀在重掺杂Si衬底上室温沉积HfO2薄膜,并对薄膜样品......
充氧口位置直接影响了真空室内的氧气分布，进而对薄膜的光学性能造成重要影响。为了研究充氧口位置对HfO2薄膜性质的影响，在2个典型......
近年来,许多便携式、可穿戴、可植入式的电子设备已经融入到我们的日常生活中。构成这些设备的关键部件有能量收集器、能量存储元......
用电子束蒸发沉积在K9玻璃基底上镀制HfO2薄膜,沉积温度为200℃,蒸发速率为0.03nm/s。由X射线衍射谱可知薄膜出现明显结晶,且为单......
激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤，因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要。建立了二维轴对称......
HfO_2薄膜被广泛应用于微电子、光学以及信息技术等高新技术领域,由于各种边界效应等因素的影响其热特性参数通常与体材料有很大的......
随着半导体工艺尺寸的不断减小,具有高保形性、膜厚精确可控的原子层沉积技术得到了更多的重视。然而,随之而来的图形密度与工艺复......
蓝宝石晶体是中波红外探测窗口的常见候选材料之一，但其透过率还不能完全满足未来高精度成像的发展趋势，且其表面疏水性能较差，这在一......
本文利用ORTUS-700电子束真空镀膜设备和X射线衍射仪、原子力显微镜、X射线光电子能谱分析仪等多种分析方法,系统研究了用真空物理......
本论文采用反应射频磁控溅射技术制备了一系列不同衬底温度的HfO2薄膜及不同Gd掺杂量的HfGdO薄膜,其中对于HfGdO薄膜,通过改变Gd靶......
采用电子束蒸发沉积方法在BK7玻璃基底和熔融石英基底上沉积了HfO2薄膜,研究了不同沉积温度下的应力变化规律。利用ZYGO干涉仪测量......
采用化学法制备了HfO2介质膜,研究了热处理、紫外辐照以及Al2O3复合对HfO2介质膜激光损伤阈值的影响.采用红外光谱(FTIR)和X射线衍......
薄膜应力的存在是薄膜材料的本征特性,对过程中薄膜应力的测量与精确控制具有重要意义.搭建了基于双光束偏转基底曲率测量装置,再......
氧化铪(HfO2)是一种简单的二元金属氧化物,具有宽禁带、高介电常数、高折射率、高透射、高抗激光损伤和高熔点等特点,在光电器件领......
